В России разработали новую технологию производства источников ионизирующего излучения

Новую, не имеющую аналогов в мире технологию производства источников ионизирующего излучения для различных отраслей промышленности разработали ученые Дальневосточного федерального университета (ДВФУ) и института химии Дальневосточного отделения РАН (ДВО РАН).

Она основана на применении метода искрового плазменного спекания для получения керамических матриц, насыщенных цезием-137, сообщил ТАСС руководитель пресс-службы ДВФУ Алексей Магаляс. «Коллектив ученых лаборатории ядерных технологий ДВФУ и Института химии ДВО РАН предложил новую, не имеющую аналогов в мире технологию производства источников ионизирующего излучения. Суть инновации заключается в использовании метода искрового плазменного спекания (Spark Plasma Sintering, или SPS-метод)», - сказал представитель университета.

Источники ионизированного излучения широко используются в медицине, сельском хозяйстве, энергетике и даже для обеззараживания денежных купюр. Ранее для этих целей применялись источники на основе солей - хлорида цезия-137, но после ряда аварий, когда радиоактивное вещество попадало в окружающую среду и угрожало населению, Международное агентство по атомной энергии (МАГАТЭ) запретило их использование. Однако ученые продолжали поиски новых технологических решений для создания безопасных источников с использованием цезия-137.

«Мы предлагаем спекать образцы высокочастотным импульсным током под давлением в 500 тонн/см2. В таких условиях вещество - неорганический сорбент, насыщенный цезием-137 - прессуется с образованием керамической стеклоподобной матрицы повышенной механической прочности с сохраненной структурой. Важно и то, что SPS-метод позволяет спрессовать таблетку очень быстро, буквально за несколько минут, а свои свойства она будет сохранять минимум 20 лет», - прокомментировал новую технологию участник научного коллектива, аспирант Школы естественных наук ДВФУ, младший научный сотрудник Института химии ДВО РАН Арсений Портнягин.

«В настоящее время новая технология проходит патентование», - уточнили в университете.

Рейтинг публикации:

0

Комментарии (0) | Распечатать

Добавить новость в: