Этот вопрос волнует очень многих. Особенно в свете последних событий, когда совсем недавно стало известно, что один из российских заводов по производству микросхем "Ангстрем-Т" проходит процедуру банкротства. Второй крупнейший микроэлектронный завод в России "Микрон" работает в убыток.
Литографическое оборудование на этих заводах хоть и устаревшее, но вполне пригодное для выпуска различной продукции. На "Микроне" это оборудование от партнера ST Microelectronics, рассчитанное на производство чипов по топологии 90 нм. Причем часть оборудования была модернизирована и "Микрон" уже несколько лет пока безуспешно пытается освоить свой собственный 65 нм техпроцесс. Пока получается не очень хорошо. Злые языки даже поговаривают, что микроновский 65 нм техпроцесс не годится для производства высокочастотных процессоров и других микросхем, то есть он рассчитан на чипы с низким потреблением и низкой тактовой частотой. На "Ангстрем-Т" стоит литографическое оборудование, купленное давным-давно у AMD с её дрезденской фабрики №38, а так же более современное, рассчитанное на 65 нм техпроцесс. И как я уже писал выше, в связи с процедурой банкротства, будущее этого завода пока туманно.
Все остальные производители микросхем в России производят чипы по еще более "толстым" техпроцессам 500 - 350 - 250 нм.
Завод "Ангстрем-Т" в ходе реконструкции, 2015 год. Установка и наладка промышленного литографического сканера ASML Twinscan 1250. Сканер позволяет экспонировать от 80 до 140 кремниевых пластин диаметром 200 - 300 мм в час с топологией 65 нм. Фото взято с сайта завода "Ангстрем-Т" в свободном доступе.
Так есть ли будущее у российской микроэлектроники или уже окончательно все потеряно?
На сайте Федеральной Целевой Программы "ИССЛЕДОВАНИЯ И РАЗРАБОТКИ ПО ПРИОРИТЕТНЫМ НАПРАВЛЕНИЯМ РАЗВИТИЯ НАУЧНО-ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО КОМПЛЕКСА РОССИИ НА 2014—2020 ГОДЫ" находится интересная информация о проекте, который уже получил государственное финансирование в размере 300 миллионов рублей. Проект разбит на 4 этапа, 2 из которых уже выполнены. Тема проекта называется так:
Разработка источника мягкого рентгеновского излучения на основе матрицы микрофокусных рентгеновских трубок для безмасочного литографа с разрешением лучше 10 нм.
Головной исполнитель - "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники", который заказывает отдельные исследования и разработки у других российских научных институтов и организаций.
В результате выполнения всех этапов этой работы, должна быть разработана технология создания чипов матриц микрофокусных рентгеновских трубок. А конечная цель - создание литографической безмасковой установки, которая будет способна в режиме мелко или средне серийного производства экспонировать 100 мм кремниевые пластины с топологией элементов 10 нм и ниже.
Так что нельзя заявлять о том, что в России вообще ничего не делается в этой области. А вот что в результате всего этого получится и сколько на это уйдёт времени? Как говорится - "поживем - увидим".