Серийный выпуск пластин для микроэлектроники: РФ готовит флагманский проект

Россия готова качественно улучшить отрасль производства микросхем за счет выпуска продукции на основе пластин арсенида и нитрида галлия. Проект оценивается почти в 3 млрд рублей.

С таким заявлением в интервью «Науке в Сибири» выступил директор ИФП СО РАН академик Александр Васильевич Латышев. По словам специалиста, новая отечественная продукция может быть использована в высокотехнологичных отраслях производства. В частности, речь идет о квантовой электронике, СВЧ-технологиях, светотехнике и развитых систем связи. Другими словами, это крайне перспективное производство, как с позиции развития научной сферы, так и других отраслей.

По словам Латышева, ожидаются очень серьезные вложения в развития данного направления производства. По предварительным планам, уже к 2025 году будет выделено порядка 2,8 млрд рублей. На новом предприятии будет налажено качественное производство полупроводниковых пластин большого диаметра из арсенида и нитрида галлия. Это фактически фундаментальное на данный момент производство, флагманский проект, сообщил специалист.

Кроме того, новое предприятие будет нуждаться в повышении кадрового потенциала. Другими словами, необходимы новые сотрудники, мастера, которые способны привнести в работу новые идеи. Сейчас на базе созданной компании происходит обучение новых специалистов. Производство новых пластин большого диаметра налажено за счет огромного опыта в выпуске аналогичной продукции, но меньшего диаметра. Это новый для России продукт. Латышев сообщил, что институт СО РАН предоставит предприятию кадры, а партнеры займутся продвижением продуктов на российском и зарубежном рынках....